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台积电5nm工艺良率已超7nm初期 苹果A14或将采用
2019-12-01 20:43:16
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  近日有消息透露,台积电的5nm制程工艺已经日渐成熟,目前良率已经可以达到35%到40%,表现已经超过了7nm工艺的初期水平。

  根据台积电的规划,5nm工艺首先在南科Fab 18工厂一期量产,明年Q3机电室产能达到5。5万片晶圆/月,Fab 18工厂的二期工程也规划了5。5万片晶圆/月的产能,预计在2021年上半年准备就绪。

  传闻,台积电的5nm制程工艺今年9月就已经达到了试产水平,苹果和华为的新一代旗舰处理器均使用5nm制程工艺进行了流片验证。

  预计明年7月,台积电的5nm制程工艺良率将提升至可以大规模量产的水平,为苹果A14芯片的量产做好准备,从而保证2020年新款iphone的顺利上市。

  根据台积电公布的数据,与7nm(第一代DUV)工艺相比使用A72架构的全新5nm芯片能够提供1.8倍的逻辑密度、速度增快15%,或者功耗降低30%。

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  近日有消息透露,台积电的5nm制程工艺已经日渐成熟,目前良率已经可以达到35%到40%,表现已经超过了7nm工艺的初期水平。根据台积电的规划,5nm工艺首先在南科Fab 18工厂一期量产,明年Q3机电室产能达到5.5万片晶圆/月,Fab 18工厂的二期工程也规划了5.5万片晶圆/月的产能...

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